第二百九十三章 光刻机技术(1/4)

首发：~第二百九十三章 光刻机技术

造芯片？

任老惊讶不已。

这话可不能随便说。

芯片这一块，一直是华夏薄弱之处，外国对国内的打压，已经到了变态的程度。

不仅仅是光刻机，等离子刻蚀刻机，离子注入机，反应离子刻蚀系统这一系列的设备，都有差距。

从芯片设计，芯片制造到芯片封测。

三个环节虽然很简单，但是涉及到的方面，很多。

海思在国内绝对是南波万，这一点毋庸置疑。

但是放眼全球芯片，海思排名20+。

这个排名意味着，没有竞争力！

为什么鸿蒙推广这么难。

归根结底，还是害怕芯片断供。

比如蓝厂，在美利坚销量一直不错，在漫威植入广告，鸿蒙一出来，你看人家怎么说?

大家都知道国产最好，可有时候不得不因为各种问题暂时妥协。

像菊厂这么刚的公司，能找出几家？

任老心想，楼小房也是有头有脸的人，造芯片这种大事，应该不会无矢放的。

“楼教授，你说的造芯片，跟我理解的造芯片一样吗？”

“我们公司的研发人员突破了最新技术，3nm，2nm，1nm都可以量产！”楼小房道：“任老感不感兴趣？”

任老浑身一震，3nm是太积电都没有突破的技术。

2nm，1nm技术，三星都没有。

众所周知，芯片中的晶体管越小，性能就越好。

5nm的芯片比7nm性能提升了80，功耗也更小。